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炭化ケイ素単結晶基板等の非酸化物単結晶基板を、高い研磨速度で研磨し、平滑な表面を得るための研磨剤を提供する。この研磨剤は、酸化還元電位が0.5V以上の、遷移金属を含む酸化剤と、酸化ケイ素粒子と酸化セリウム粒子、および分散媒を含有し、前記酸化ケイ素粒子の含有量と前記酸化 ...
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